Shaanxi BLOOM Tech Co., Ltd. on Hiinas üks kogenumaid heksametüüldisilasaani (hmds) cas 999-97-3 tootjaid ja tarnijaid. Tere tulemast hulgimüügi hulgi kvaliteetse heksametüüldisilasaani (hmds) cas 999-97-3 müügiks siin meie tehasest. Saadaval on hea teenindus ja mõistlik hind.
Heksametüüldisilasaan (HMDS), värvitu läbipaistev vedelik. Seda on lihtne hüdrolüüsida, NH3 vabastada ja heksametüüldisilaani tekitada. Katalüsaatori juuresolekul reageerib see alkoholi või fenooliga, saades trimetüülalkoksüsilaani või trimetüülarüüloksüsilaani. See reageerib veevaba vesinikkloriidiga, vabastades NH3 või NH4Cl, moodustades trimetüülklorosilaani. Seda saab valmistada trimetüülklorosilaani reageerimisel NH3-ga. Seda saab kasutada hüdrofoobse töötlusainena suitsutatud ränidioksiidi pinnal ja reagendina N-aatomite saamiseks orgaanilise sünteesi reaktsioonis, ränikarbiidkiudude abiainena, ränikarbiidkiudude kuumakindluse ja tugevuse parandamiseks ning katete sadestumisevastase ainena. Seda kasutatakse ka räniorgaaniliste ühendite valmistamiseks.
|
|
|
|
Keemiline valem |
C6H19NSi2 |
|
Täpne missa |
161.11 |
|
Molekulmass |
161.40 |
|
m/z |
161.11 (100.0%), 162.11 (6.5%), 162.11 (5.1%), 162.11 (5.1%), 163.10 (3.3%), 163.10 (3.3%) |
|
Elementaaranalüüs |
C, 44,65; H, 11,87; N, 8,68; Si, 34,80 |
Heksametüüldisilasaan (HMDS)(CAS number: 999-97-3) kui multifunktsionaalne orgaaniline räniühend, on oma ainulaadse räni lämmastiksideme (Si-N) struktuuri ja kõrge reaktsioonivõime tõttu näidanud asendamatut väärtust erinevates valdkondades, nagu meditsiin, pooljuht, orgaaniline süntees ja materjali modifitseerimine.
HMDS-i kasutamine farmaatsiavaldkonnas moodustab 64% ja see on antibiootikumide, -kasvajavastaste ravimite, viirusevastaste ravimite ja sihtotstarbeliste ravimikandjate sünteesi põhireaktiiv. Selle põhiväärtus kajastub rühmakaitse ja reaktsiooni aktiveerimise kahes funktsioonis:
Antibiootikumide süntees
- laktaamantibiootikumid (nagu penitsilliin ja tsefalosporiin): HMDS kaitseb hüdroksüül- või aminorühmi silaanimise kaudu, takistades peamiste vaheühendite lagunemist happelistes või kõrgel temperatuuril{1}}. Näiteks tsefalosporiinantibiootikumide sünteesil kaitseb HMDS 7-aminotsefalosporaanhappe (7-ACA) hüdroksüülrühma, suurendades reaktsiooni saagist 65%-lt 89%-le, vähendades samal ajal kõrvalsaaduste teket.
Aminoglükosiidantibiootikumid (nagu amikatsiin ja kanamütsiin): HMDS kaitseb aminorühma, et tagada reaktsiooniraja stabiilsus. Amikatsiini sünteesis suurendas HMDS-i kasutuselevõtt vaheühendi puhtust 92%-lt 98%-le, parandades oluliselt suuremahulise-tootmise efektiivsust.
kasvajavastased ravimid
Fluorouratsiil (5-FU): HMDS kaitseb ravimite vaheühendite hüdroksüülrühmi silaanimise kaudu, vähendades oksüdatiivseid kõrvalreaktsioone. Eksperimentaalsed andmed näitavad, et pärast HMDS-i kasutamist lihtsustati fluorouratsiili sünteesietappe 7-lt 4-le, saagis tõusis 58%-lt 76%-le ja puhtus ulatus 99,5%-ni.
Sihtotstarbeline ravimikandja: Kõrge puhtusastmega HMDS-i kasutatakse liposoomide või polümeeri nanoosakeste pinna muutmiseks, suurendades biosobivust ja sihtimist. Näiteks modifitseeritud vähivastaste-ravimite kandjate kogunemine kasvajakudedesse suureneb kolm korda ja süsteemne toksilisus väheneb 40%.
viirusevastased ravimid
Azvudiin: HMDS vähendab lisandite tekke ohtu uute viirusevastaste ravimite vaheühendite sünteesil mitmeastmeliste kaitsereaktsioonide kaudu. Prekliinilised uuringud on näidanud, et HMDS-i kasutuselevõtt vähendab vaheainete lisandite sisaldust 2,1%-lt 0,3%-le, toetades suuremahulist-tootmist, mille aastavõimsus on üle 50 tonni.
Pooljuhtide tööstus: fotolitograafiatehnoloogia "sidumisekspert".
Pooljuhtide valdkonnasHeksametüüldisilasaan (HMDS), fotosöövitusainete sideainena, parandab kiibi valmistamise täpsust pinna modifitseerimise tehnoloogia abil, moodustades 20% rakendustest. Selle peamine toimemehhanism on:
Pinna hüdrofoobsustöötlus
HMDS pihustatakse ränivahvlite pinnale vedelas või gaasifaasis ja räni lämmastikside kondenseerub räni hüdroksüülrühmaga (- Si OH), moodustades hüdrofoobse räninitriidi kihi (kontaktnurk suureneb 20 kraadilt 120 kraadini), mis vähendab kolmekordset räni ja kiirguse kestust. söövituslahuse läbitungimissügavus 80% võrra ja suurendab oluliselt korrosioonikindlust.
Elektroonilise kvaliteediga tooterakendused
Elektroonilise kvaliteediga HMDS (puhtus on suurem või võrdne 99,999%) on laialdaselt kasutatud sellistes valdkondades nagu lameekraanid ja kiipide tootmine. Näiteks 12-tollise vahvli töötlemisel vähendab HMDS-töötlus fotoresisti eemaldamise määra 15%-lt 3%-le, kontrollib joone laiuse ühtlust ± 2nm piires ja toetab protsesse 5 nm ja alla selle.
Räniorgaanilised materjalid: peamised modifikaatorid jõudluse parandamiseks
HMDS moodustab 3% kasutusest räniorgaanilises valdkonnas ja on põhilisand selliste materjalide nagu silikoonkummi, silikoonõli ja silikoonvaigu omaduste optimeerimiseks.
Silikoonkummist tugevdus
HMDS kui tihendusaine reageerib silikoonkummist molekulaarse ahela lõpus olevate hüdroksüülrühmadega räni lämmastiksidemete kaudu, moodustades stabiilse ristseotud struktuuri. Katsed on näidanud, et 2% HMDS-i lisamine silikoonkummile suurendab selle rebenemistugevust 40%, laiendab temperatuurikindluse vahemikku -50 kraadilt 200 kraadini -80 kraadini kuni 250 kraadini ja vähendab selle kokkusurumist 50%.
Silikoonõli hüdrofoobne töötlemine
HMDS reageerib gaasi{0}}faasi valge tahma pinnal olevate silanoolrühmadega, moodustades hüdrofoobse silasaanikihi, suurendades silikoonõli kontaktnurka 30 kraadilt 150 kraadini ja vähendades vahutamisaega 60%. Seda kasutatakse laialdaselt pinnakatetes, kosmeetikas ja muudes valdkondades.
Kõrge temperatuuriga määrdeaine lisand
HMDS ühineb määrdeõli molekulidega, moodustades kaitsekile, vähendades lenduvust 30%, pikendades oksüdatsiooni induktsiooni perioodi 2 korda ja suurendades termilist stabiilsust 300 kraadini. See sobib kõrge temperatuuriga-keskkonda, näiteks lennukimootoritele.
Materjali pinnatöötlus: "peavõti" funktsionaalseks muutmiseks
HMDS saavutab jõudluse optimeerimise, kondenseerides hüdroksüülrühmi anorgaaniliste materjalide pinnal räni lämmastiksidemete kaudu, kusjuures kasutusosa on 8%.
Pulbermaterjali töötlemine
Valge tahm: Pärast HMDS-töötlust vähenes eripind 200 m²/g-lt 180 m²/g-le, aglomeratsiooninähtus vähenes 70% ja dispergeeritavus kummis paranes oluliselt.
Titaanipulber: Pinna hüdrofoobsustöötlus vähendab titaanipulbri settimiskiirust orgaanilistes lahustites 90%, muutes selle sobivaks 3D-printimiseks metallipulbri valmistamiseks.
Kiudkanga modifikatsioon
Ränikarbiidkiudude HMDS-töötlus moodustab räninitriidist kaitsekihi, suurendades kiu kuumakindlust 1200 kraadilt 1500 kraadini ja tugevuse säilivusmäära 65%-lt 85%-le. Seda kasutatakse laialdaselt kosmosekomposiitmaterjalides.
Heksametüüldisilasaan (HMDS)moodustab orgaanilise sünteesi valdkonnas 5% ja selle peamised rakendused hõlmavad järgmist:
Klorosilaani monomeeri süntees
HMDS läbib kloorivahetusreaktsiooni klorosilaanidega (nagu oktametüültsüklotetrasiloksaan), et tekitada polüsilasaani, saagis on 20% suurem ja energiakulu väheneb 30% võrreldes otsese ammoniaagi meetodiga. See on oluline meetod keraamiliste lähteainete valmistamiseks.
Gaasikromatograafia saba reduktor
Fikseeritud vedelikuna vähendab HMDS kandja pinna adsorptsiooni aktiivsust, suurendab piikide sümmeetriat 40% ja vähendab tuvastamispiiri 0,1 ppm-ni. Seda kasutatakse laialdaselt keskkonnaseires, ravimianalüüsis ja muudes valdkondades.
Elektronmikroskoobi proovide ettevalmistamine
HMDS kui kriitilise punkti kuivatusaine asendab traditsioonilist etanooli dehüdratsiooni, vähendab proovi kokkutõmbumist 80%, säilitab rakkude ultrastruktuuri ja seda kasutatakse laialdaselt biomeditsiinilistes uuringutes.
Selle toote jaoks on viis peamist sünteesiprotsessi:
1. Trimetüülsilaan reageerib ammoniaagiga Pt või Pd katalüüsil. Reaktsioonitemperatuur on kõrge ja seadmed ranged. Saagis on kuni 95,8%.
2. Trimetüülklorosilaan valmistatakse trimetüülklorosilaanist reageerimisel ammoniaagiga inertses lahustis ja rektifikatsioonil.
3. Kui heksametüüldisiloksaan on tooraine, reageerib see kontsentreeritud väävelhappega, et tekitada ränisulfaat, ja ränisulfaat reageerib vesinikkloriidiga, tekitades trimetüülklorosilaani ja seejärel läbib HMDS-i valmistamiseks ammoniaagi.
4. Heksametüüldisiloksaan reageerib fosforpentoksiidi või fosforhappega, et valmistada ränifosfaati, ja seejärel siseneb ammoniaaki, et valmistada HMDS.
5. HMDS valmistatakse heksametüüldisiloksaani ja kontsentreeritud väävelhappe reaktsioonil ränisulfaadi saamiseks otse läbi ammoniaagi.
Praegu kasutatakse teist meetodit peamiselt HMDS-i tööstuslikuks tootmiseks Hiinas. See meetod kasutab toorainena trimetüülklorosilaani, reageerib ammoniaagiga inertses lahustis ja valmistatakse seejärel destilleerimise teel.
1. meetod:
Lisage segisti, termomeetri ja manomeetriga reaktorisse 630 ml trimetüülklorosilaani, 250 ml heksametüüldisiloksaani, 500 ml benseeni ja 500 ml ksüleeni ning segage ühtlaselt. Ammoniaagigaasi juhitakse sisse ammoniaagi reaktsiooniks ja materjali oleku muutumist kolvis jälgitakse hoolikalt gaasi ammoniaagi sisestamise protsessis. Kontrollige rangelt ammoniaagi gaasi voolukiirust ja reaktsioonikiirus ei tohiks olla liiga kiire, et soolaosakesed ei saaks trimetüülklorosilaani mähkida. Kontrolli reaktsiooni temperatuuri alla 80 kraadi või sellega ja reaktsiooni rõhku 0,2 MPa või alla selle. Pärast ammoniaagireaktsiooni jahutage materjal 35 kraadini ja lisage esimeseks vesipesuks 800 ml vett. Pärast pesemist seista 5 minutit ja eemaldada faaside kaupa alumise kihi NH4Cl vesilahus. Orgaanilise faasi pesemiseks lisage 400 ml 30% kaaliumhüdroksiidi lahust. Pärast pesemist laske sellel 5 minutit seista ja seejärel eraldage alumine vesifaas. Orgaanilist faasi pestakse teist korda 800 ml veega. Pärast faaside eraldamist on ülemine materjal töötlemata HMDS. Pesemise ajal on esimese pesu pesuvesi pärast leelispesu teise pesemise pesuvesi. Toorprodukt saadetakse destilleerimistorni, et eraldada reaktsioonilahusti ja saadus ning lõpuksheksametüüldisilasaansisaldusega 99% või suurem saadakse saagisega 89,99%.
2. meetod:
Meetod heksametüüldisiloksaani valmistamiseks heksametüüldisiloksaanist sisaldab järgmisi etappe:
1) Pange 1000kg heksametüüldisiloksaani 1500L mahuga reaktsioonianumasse, sisestage reaktsioonianumasse kuiv vesinikkloriidgaas ning genereerige trimetüülklorosilaan ja vesi; Rõhk reaktsioonianumas reguleeritakse tasemele umbes 0,2 MPa, temperatuur on 30 kraadi ja segamiskiirus reaktsioonianumas on 65 r/min. Reaktsiooni käigus juhitakse tekkinud vesi reaktsioonianuma põhjast välja.
Kui trimetüülklorosilaani mass heksametüüldisiloksaani ja trimetüülklorosilaani segalahuses ülaltoodud reaktsioonianumas moodustab 30% segatud lahuse massist, lõpetage gaasilise vesinikkloriidi läbilaskmine ja reaktsioon lõpeb.
2) Viige ülaltoodud heksametüüldisiloksaani ja trimetüülklorosilaani segu teise reaktorisse mahuga 3000L ja segage. Heksametüüldisiloksaani ja ammooniumkloriidi saamiseks täitke reaktor kuiva ammoniaagiga. Rõhk reaktoris on umbes 0,25 MPa, temperatuur 35 kraadi ja reaktsiooniaeg 5 tundi.
3) Etapi 2) reaktsioonisaaduse ammooniumkloriid eraldatakse läbi ammooniumkloriidi eralduspaksendaja ja seejärel rektifiseeritakse jääk heksametüüldisiloksaani eemaldamiseks, et lõpuks saada.heksametüüldisilasaan (HMDS).
Kuum tags: heksametüüldisilasaan(hmds) cas 999-97-3, tarnijad, tootjad, tehas, hulgimüük, ost, hind, hulgi, müük